1) back spattering
反电泼(离子蚀刻)
2) inductively coupled plasma reactive ion etching
电感耦合反应离子刻蚀
3) reactive ion etching
反应离子刻蚀
1.
Simulation of Reactive Ion Etching;
反应离子刻蚀的计算机仿真
2.
With electron beam lithography and reactive ion etching techniques we are able to produce graphite patterns of sizes down to 50 nm.
首先,发现用聚焦离子束(镓离子)刻蚀高定向热解石墨,可以得到边缘整齐程度在几十纳米的石墨条,另外,用电子束曝光和反应离子刻蚀的工艺,可以得到最小尺寸为50nm的纳米石墨图型(nanosizedgraphitepattern,纳米尺寸的多层石墨结构)。
3.
A reactive ion etching(RIE) cleaning the residual resist layer away by O_2 was presented in UV-imprint lithography.
针对紫外(UV)压印光刻在压印工艺过程中会产生阻蚀胶残膜的技术特点,采用以O2为反应气体来清除阻蚀胶残膜的反应离子刻蚀(RIE)工艺方法,研究了不同的反应气体流量、反应腔室压力、射频功率等刻蚀参数对刻蚀速率和刻蚀各向异性的影响,得到了刻蚀速率和刻蚀各向异性随各刻蚀参数的变化趋势图。
4) RIE
反应离子刻蚀
1.
The Edge Effect in High Power RIE and Compensatory Approach;
反应离子刻蚀中的边缘效应及其补偿办法
2.
Modeling for Charging Effect during RIE Processing;
反应离子刻蚀工艺中的充电效应
3.
Surfaces topographies on Si wafer substrates with different dimesions have been produced by photolithography and reactive ion etching(RIE),and subsequently titanium dioxide films were coated on them via sol-gel method.
采用光刻技术和反应离子刻蚀法(RIE)先在硅表面制备出一系列平面尺寸不同的微图形阵列,然后采用溶胶凝胶(sol-gel)浸渍提拉法在其表面制备出均匀致密、表面粗糙度一致的锐钛矿型纳米晶TiO2薄膜。
5) deep reactive ion etching
深反应离子刻蚀
1.
The rooting effect of the structure in deep reactive ion etching (DRIE) process was investigated.
给出了加速度计的制作工艺流程,研究了解决深反应离子刻蚀过程中的过刻蚀现象的方法。
6) reactive ion beam etching (RIBE)
反应离子束蚀刻
1.
The silicon wafers were highly polished by reactive ion beam etching (RIBE) until surface micro-roughness was under 2 nm, and the hydrophilic glass and oxidized silicon wafer were dried and initially bonded in air for appropria.
利用反应离子束蚀刻(RIBE)对基片进行抛光,使得键合表面达到2 nm级的表面粗糙度。
补充资料：单通道电感耦合等离子体单色仪
分子式：
CAS号：
性质：由电感耦合等离子光源与扫描单色仪组成的发射光谱分析仪器。是一种只能进行单个元素分析的装置；结构简单，造价低廉，测定速度慢，消耗氩气及试样量大。测定某元素时，将波长调到其分析线位置，然后将试样喷入电感耦合等离子体喷焰中。
CAS号：
性质：由电感耦合等离子光源与扫描单色仪组成的发射光谱分析仪器。是一种只能进行单个元素分析的装置；结构简单，造价低廉，测定速度慢，消耗氩气及试样量大。测定某元素时，将波长调到其分析线位置，然后将试样喷入电感耦合等离子体喷焰中。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条