1) ion etching
离子刻蚀
1.
The distribution of C, O, N, Cl elements in ternary polyurethane/epoxy/poly-B-propylene glycol diacrylate(PUR/EP/PPGDA) IPNs' surface was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy and the internality was analyzed with argon ion etching.
用X射线光电子能谱(XPS)分析了以聚氨酯(PUR)为第一网络的PUR/环氧树酯/聚-β-丙二醇二丙烯酸酯互穿聚合物网络(PUD/EP/PPGDA IPN)弹性体的表面元素分布,并用氩离子刻蚀进行材料内部元素分析。
2.
In order to make high quality junctions we have done some researches on reaction ion etching(RIE) method and ion etching method.
在制备所有的NbN超导隧道结的过程中,为了得到良好的隧道结,刻蚀是很关键的一步,我们对反应离子刻蚀(RIE)和离子刻蚀两种不同的方法进行了研究比较。
3.
This paper applies the thermal spikes effect and ion etching effect to explain the formation of DLC films by analyzing the effects of energy particles.
本文通过分析荷能离子的作用，应用热峰效应和离子刻蚀效应来解释ＤＬＣ膜的形
2) Ion etch
离子刻蚀
1.
The theory of ion etching and the parameter of ion source designing are discussed in detail.
并且详细论述离子刻蚀的原理以及离子源的参数设计。
3) Ion etching
离子蚀刻
1.
The speed of etching the sample was determined by controling the size ofion beam and voltage of two pole of ion beam,By the technigue of ion etching,themicroshape of the mite leg and the mite boby of the Tetranychus truncatus Ehara wasclearly displayed under Scaning Electronic Microscope(SEM).
本文以截形叶螨为实验样品，经离子蚀刻后在扫描电镜下观察，清晰地显示了螨足、螨体解剖后的显微结构。
4) ion beam etching
离子束刻蚀
1.
Influence of fabrication error in ion beam etching on diffractive optical element;
离子束刻蚀工艺误差对DOE器件的影响
2.
Fresnel lens fabricated by ion beam etching;
离子束刻蚀法制作菲涅耳透镜
3.
An Ion beam etching facility,model KZ-400 has been successfully designed and constructed to fabricate large-aperture(400 mm×400 mm) optical diffraction components.
日前我室为制作大口径(400 mm×400 mm)衍射光学元件需要,成功研制了一台KZ-400离子束刻蚀装置。
5) Plasma Etching
等离子刻蚀
1.
Research on array carbon nanotubes film without substrate by centrifugal infiltration and plasma etching
离心渗透等离子刻蚀法制备无基底阵列式碳纳米管复合膜
2.
The methods for making carbon nanotubes(CNTs)/ polymer composite films by plasma etching are researched.
本文研究了等离子刻蚀碳纳米管(CNTs)聚合物复合膜的工艺,并采用测量接触电阻表征薄膜的刻蚀效果。
6) ion-beam etching
离子束刻蚀
1.
The influence of quadratic effect of ion-beam etching on pattern profile and the influence of ion-beam etching incidence angle on slope of pattern sidewall are studied.
介绍了离子束刻蚀的二次效应对图形轮廓以及离子束刻蚀入射角对图形侧壁陡度的影响。
2.
Soft X-ray Ge and Ni condenser phase zone plates are fabricated by ion-beam etching technology on polyimide substrate and contact synchrotron radiation lithography with the mask.
以激光全息离子束刻蚀技术制作金的振幅型软X射线聚焦波带片,以此为掩模,利用接触式同步辐射光刻和离子束刻蚀技术在聚酰亚胺衬底上,分别制作出了镍和锗的软X射线相位型聚焦波带片。
3.
The meanings of ion-beam etching for the fabrication of phase mask are discussed, and the progress of the research on ion-beam etching are introduced.
本文围绕光纤光栅相位掩模的特点和制作展开了理论和实验研究,主要包含了以下几方面的内容: 首先介绍了研究光纤光栅相位掩模的意义和国内外光纤光栅相位掩模的研究进展,并且讨论了离子束刻蚀对于掩模制作的重要意义,介绍了离子束刻蚀的国内外研究现况。
补充资料：离子束刻蚀（ion-beametching）
离子束刻蚀（ion-beametching）
离子束刻蚀，也称为离子铣，它的主要原理是当定向高能离子向固体靶撞击时，能量从入射离子转移到固体表面原子上，如果固体表面原子间结合能低于入射离子能量时，固体表面原子就会被移开或从表面上被除掉。通常离子束刻蚀所用的离子来自惰性气体。为了保证刻蚀的均匀性，离子束密度必须均匀并且应具有相同能量。此外，系统内的压力必须足够低，以防止离子束被散射。离子束刻蚀的机构决定了这种刻蚀有好的各向异性，又因为粒子尺寸是离子或原子量级的，因而这种刻蚀也具有较高的分辨率。这种技术的主要限制是刻蚀过程引起温升，这将使光刻胶很难除掉。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条