1) Ion etching
离子蚀刻
1.
The speed of etching the sample was determined by controling the size ofion beam and voltage of two pole of ion beam,By the technigue of ion etching,themicroshape of the mite leg and the mite boby of the Tetranychus truncatus Ehara wasclearly displayed under Scaning Electronic Microscope(SEM).
本文以截形叶螨为实验样品，经离子蚀刻后在扫描电镜下观察，清晰地显示了螨足、螨体解剖后的显微结构。
2) ion etching
离子刻蚀
1.
The distribution of C, O, N, Cl elements in ternary polyurethane/epoxy/poly-B-propylene glycol diacrylate(PUR/EP/PPGDA) IPNs' surface was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy and the internality was analyzed with argon ion etching.
用X射线光电子能谱(XPS)分析了以聚氨酯(PUR)为第一网络的PUR/环氧树酯/聚-β-丙二醇二丙烯酸酯互穿聚合物网络(PUD/EP/PPGDA IPN)弹性体的表面元素分布,并用氩离子刻蚀进行材料内部元素分析。
2.
In order to make high quality junctions we have done some researches on reaction ion etching(RIE) method and ion etching method.
在制备所有的NbN超导隧道结的过程中,为了得到良好的隧道结,刻蚀是很关键的一步,我们对反应离子刻蚀(RIE)和离子刻蚀两种不同的方法进行了研究比较。
3.
This paper applies the thermal spikes effect and ion etching effect to explain the formation of DLC films by analyzing the effects of energy particles.
本文通过分析荷能离子的作用，应用热峰效应和离子刻蚀效应来解释ＤＬＣ膜的形
3) Ion etch
离子刻蚀
1.
The theory of ion etching and the parameter of ion source designing are discussed in detail.
并且详细论述离子刻蚀的原理以及离子源的参数设计。
4) ion beam etching
离子束刻蚀
1.
Influence of fabrication error in ion beam etching on diffractive optical element;
离子束刻蚀工艺误差对DOE器件的影响
2.
Fresnel lens fabricated by ion beam etching;
离子束刻蚀法制作菲涅耳透镜
3.
An Ion beam etching facility,model KZ-400 has been successfully designed and constructed to fabricate large-aperture(400 mm×400 mm) optical diffraction components.
日前我室为制作大口径(400 mm×400 mm)衍射光学元件需要,成功研制了一台KZ-400离子束刻蚀装置。
5) Plasma Etching
等离子刻蚀
1.
Research on array carbon nanotubes film without substrate by centrifugal infiltration and plasma etching
离心渗透等离子刻蚀法制备无基底阵列式碳纳米管复合膜
2.
The methods for making carbon nanotubes(CNTs)/ polymer composite films by plasma etching are researched.
本文研究了等离子刻蚀碳纳米管(CNTs)聚合物复合膜的工艺,并采用测量接触电阻表征薄膜的刻蚀效果。
6) ion-beam etching
离子束刻蚀
1.
The influence of quadratic effect of ion-beam etching on pattern profile and the influence of ion-beam etching incidence angle on slope of pattern sidewall are studied.
介绍了离子束刻蚀的二次效应对图形轮廓以及离子束刻蚀入射角对图形侧壁陡度的影响。
2.
Soft X-ray Ge and Ni condenser phase zone plates are fabricated by ion-beam etching technology on polyimide substrate and contact synchrotron radiation lithography with the mask.
以激光全息离子束刻蚀技术制作金的振幅型软X射线聚焦波带片,以此为掩模,利用接触式同步辐射光刻和离子束刻蚀技术在聚酰亚胺衬底上,分别制作出了镍和锗的软X射线相位型聚焦波带片。
3.
The meanings of ion-beam etching for the fabrication of phase mask are discussed, and the progress of the research on ion-beam etching are introduced.
本文围绕光纤光栅相位掩模的特点和制作展开了理论和实验研究,主要包含了以下几方面的内容: 首先介绍了研究光纤光栅相位掩模的意义和国内外光纤光栅相位掩模的研究进展,并且讨论了离子束刻蚀对于掩模制作的重要意义,介绍了离子束刻蚀的国内外研究现况。
补充资料：电去离子技术和反渗透-电去离子高纯水设备
技术概况
1、采用自行研制的暗道式流道淡室隔板、国产的异相离子交换膜和离子交换树脂等材料组装的电去离子（EDI）膜堆，结合超滤、反渗透（RO）等膜分离技术成功地用于纯水、高纯水制备，结构紧凑，工艺合理，操作简便，系统设计具有创新性。
2、以RO-EDI为核心技术设计制造的1m3/h高纯水设备及小型高纯水装置工艺先进，EDI膜堆产水电阻率达到16~17MΩcm，钾、钠、锌、镍、铜、全硅、氯、硝酸根、磷酸根、硫酸根、总有机炭及细菌数等项指标达到电子级水I级标准，微粒数达到Ⅱ级标准；医药、生物技术等行业用的RO-EDI装置产水水质达到中国药典注射用水标准。
3、实验室试验及使用单位应用表明，研制的EDI膜堆可以连续稳定运行，生产纯水、高纯水。EDI膜堆污染后，可以通过清洗恢复性能。
4、研制的EDI膜堆及RO-EDI高纯水设备已经具备了产业化条件，在国内处于领先地位，并在产水水质、水耗、电耗等方面达到美国、加拿大同类品的先进水平。
5、EDI属清洁生产技术，可广泛用于电子、电力、医药、生物技术等行业生产纯水、高纯水，具有重大的社会、经济效益。
技术原理
一、基本原理
EDI是国际上九十年代才逐步成熟的纯水、高纯水生产技术、是纯水生产领域一项具有革命性的技术突破。EDI为电渗析与离子交换有机结合形成的新型膜分离技术，在外加电场的作用下，使离子交换、离子迁移、树脂电再生三个过程相伴发生，相互促进。它既保留下电渗析可连续脱盐及离子交换树脂可深度脱盐的优点，又克服了电渗析浓差极化所造成的不良影响及离子交换树脂需用酸碱再生的麻烦和造成的环境污染，可以使制水过程连续长期进行，并能获得高质量的纯水，整个过程相当于连续获得再生的混床离子交换。
二、技术关键
1、EDI淡室隔板的设计；
2、填充材料的选择；
3、EDI膜堆的组装；
4、EDI膜堆水路系统的安排；
5、EDI膜堆的操作参数。
适用范围 医药、电子、电力、生物技术和科学研究
1、采用自行研制的暗道式流道淡室隔板、国产的异相离子交换膜和离子交换树脂等材料组装的电去离子（EDI）膜堆，结合超滤、反渗透（RO）等膜分离技术成功地用于纯水、高纯水制备，结构紧凑，工艺合理，操作简便，系统设计具有创新性。
2、以RO-EDI为核心技术设计制造的1m3/h高纯水设备及小型高纯水装置工艺先进，EDI膜堆产水电阻率达到16~17MΩcm，钾、钠、锌、镍、铜、全硅、氯、硝酸根、磷酸根、硫酸根、总有机炭及细菌数等项指标达到电子级水I级标准，微粒数达到Ⅱ级标准；医药、生物技术等行业用的RO-EDI装置产水水质达到中国药典注射用水标准。
3、实验室试验及使用单位应用表明，研制的EDI膜堆可以连续稳定运行，生产纯水、高纯水。EDI膜堆污染后，可以通过清洗恢复性能。
4、研制的EDI膜堆及RO-EDI高纯水设备已经具备了产业化条件，在国内处于领先地位，并在产水水质、水耗、电耗等方面达到美国、加拿大同类品的先进水平。
5、EDI属清洁生产技术，可广泛用于电子、电力、医药、生物技术等行业生产纯水、高纯水，具有重大的社会、经济效益。
技术原理
一、基本原理
EDI是国际上九十年代才逐步成熟的纯水、高纯水生产技术、是纯水生产领域一项具有革命性的技术突破。EDI为电渗析与离子交换有机结合形成的新型膜分离技术，在外加电场的作用下，使离子交换、离子迁移、树脂电再生三个过程相伴发生，相互促进。它既保留下电渗析可连续脱盐及离子交换树脂可深度脱盐的优点，又克服了电渗析浓差极化所造成的不良影响及离子交换树脂需用酸碱再生的麻烦和造成的环境污染，可以使制水过程连续长期进行，并能获得高质量的纯水，整个过程相当于连续获得再生的混床离子交换。
二、技术关键
1、EDI淡室隔板的设计；
2、填充材料的选择；
3、EDI膜堆的组装；
4、EDI膜堆水路系统的安排；
5、EDI膜堆的操作参数。
适用范围 医药、电子、电力、生物技术和科学研究
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条