1) electronic grade tetrafluoromethane
电子级四氟化碳
2) electronic grade silicon tetrafluoride
电子级四氟化硅
3) electronic grade titanium tetrafluoride
电子级四氟化钛
4) carbon tetrafluoride
四氟化碳
1.
The method how to remove carbon fluoride impurities, for example ethane hexafluoride (C_(2)F_(6)), from raw carbon tetrafluoride (CF_(4)) in a medium-pressure and low-temperature (-60 ℃,2.
讨论了通过低温加压精馏(-60℃、2 0MPa)除去四氟化碳中六氟乙烷等氟碳杂质,以达到4N级四氟化碳对氟碳杂质浓度的要求。
2.
In the article, mostly works are concerned for carbon tetrafluoride standard gas,supply a gap of our country in this field,and explore the new technique of use electron balance to make up standard gas.
本文的主要工作是研制氮中四氟化碳标准气体,填补我国在这一领域的空白,并探索应用电子天平配制标准气体的新方法。
3.
In the occurrence of arcs discharges, spark discharges and corona discharges, sulfur hexafluoride (SF6) would be decomposed to complicated byproducts such as sulfur dioxide (SO2), carbon tetrafluoride (CF4), etc.
六氟化硫(SF6)气体在电弧、电火花和电晕放电的作用下会发生分解,产生二氧化硫(SO2)、四氟化碳(CF4)等分解产物。
5) electronic grade molybdenum hexafluoride
电子级六氟化钼
6) electronic grade tungsten hexafluoride
电子级六氟化钨
补充资料：电子级四氟化碳
分子式： CF4
CAS号：
性质：别名四氟甲烷。无色，不可燃气体，是最稳定的有机化合物之一。与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒的氟化物。液体密度1613kg/m3(-130℃)。沸点-128℃。熔点-184℃。其制法是采用活性炭直接氟化工艺，反应产品经除尘，碱洗，脱水、精馏，可制取纯度为99.99％的四氟化碳。它是微电子工业中用量最大的等离子刻蚀气体。广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的刻蚀；在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷剂、气体绝缘等方面也大量应用。
CAS号：
性质：别名四氟甲烷。无色，不可燃气体，是最稳定的有机化合物之一。与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒的氟化物。液体密度1613kg/m3(-130℃)。沸点-128℃。熔点-184℃。其制法是采用活性炭直接氟化工艺，反应产品经除尘，碱洗，脱水、精馏，可制取纯度为99.99％的四氟化碳。它是微电子工业中用量最大的等离子刻蚀气体。广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的刻蚀；在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷剂、气体绝缘等方面也大量应用。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条