1) electronic grade silicon tetrachloride
电子级四氯化硅
2) electronic grade silicon tetrafluoride
电子级四氟化硅
3) electronic grade trichlorosilane
电子级三氯氢硅
4) silicon tetrachloride
四氯化硅
1.
The application of DCS in the production of silicon tetrachloride;
分布式控制系统在四氯化硅生产中的应用
2.
Advance on industrial application research of silicon tetrachloride;
四氯化硅工业应用研究进展
5) tetrachlorosilane
四氯化硅
1.
Synthesis of 1,3 bis(3,5 dibromophenyl)but 2 en l one catalyzed by tetrachlorosilane;
四氯化硅催化合成1,3-二(3,5-二溴苯基)丁烯-2酮-1
2.
Self condensation of m bromoacetophenone,catalyzed by tetrachlorosilane in mole ratio n (m bromoacetophenone)∶ n (tetrachlorosilane)=1∶1 afforded 1,3 bis (3′ bromophenyl)but 2 en 1 one(A) in 52% yield.
2制得间溴苯乙酮 ,产率为 6 5 % ;间溴苯乙酮与催化剂四氯化硅按n(间溴苯乙酮 )∶n(四氯化硅 ) =1∶1在无水乙醇中经缩合反应制得 1,3 二 (3′ 溴苯基 )丁烯 2 酮 1(A) ,产率为5 2 % ,以此为中间体与对氯苯乙酮在四氯化硅催化下按n(A)∶n (对氯苯乙酮 )∶n (四氯化硅 )=1。
3.
The condensation of p-methoxyacetophenone(Ⅰ)catal yzed by tetrachlorosilane(TCS) with mole ratio n(Ⅰ)∶n(TCS )=4.
以对甲氧基苯乙酮 (Ⅰ )为原料 ,四氯化硅 (TCS)为催化剂 ,按n(Ⅰ )∶n(TCS) =4 3∶10的量比 ,在绝对乙醇中经缩合反应制得 1,3 ,5 三 ( 4 甲氧基苯基 )苯 (Ⅱ ) ,产率为 72 % ,以此为中间体与三溴化硼按n(Ⅱ )∶n(BBr3) =1∶4的量比在无水二氯甲烷中经脱甲基反应合成了 1,3,5 三 ( 4 羟基苯基 )苯 (Ⅲ ) ,产率为 81%。
6) chlorid kremicity
四氯化硅,四氯四硅烷
补充资料：电子级四氯化硅
分子式： SiCl4
CAS号：
性质：无色、有腐蚀性、不可燃液体，有令人窒息的臭味。曝露于湿空气时形成浓烟，迅速水解放出氯化氢。沸点57.6℃。熔点-70.0℃。液体密度1483kg/m3(21.1℃)。TLV(按HCl)5×10-6。其制法是以工业级四氯化硅为原料，采用精馏工艺，或再与吸附工艺相结合进行提纯。四氯化硅用作半导体硅外延的硅源。由于它的沸点高，可作为优良的低温硅淀积的源材料。
CAS号：
性质：无色、有腐蚀性、不可燃液体，有令人窒息的臭味。曝露于湿空气时形成浓烟，迅速水解放出氯化氢。沸点57.6℃。熔点-70.0℃。液体密度1483kg/m3(21.1℃)。TLV(按HCl)5×10-6。其制法是以工业级四氯化硅为原料，采用精馏工艺，或再与吸附工艺相结合进行提纯。四氯化硅用作半导体硅外延的硅源。由于它的沸点高，可作为优良的低温硅淀积的源材料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条