1) electronic grade nitrogen trifluoride
电子级三氟化氮
2) electronic grade phosphorus trifluoride
电子级三氟化磷
3) electronic grade arsenic trifluoride
电子级三氟化砷
4) electronic grade trifluoromethane
电子级三氟甲烷
5) nitrogen trifluoride
三氟化氮
1.
Application of ASPEN PLUS in Nitrogen trifluoride-Carbon tetrofluoride Azeotropic Distillation;
ASPEN PLUS软件在三氟化氮-四氟化碳体系共沸精馏中的应用
2.
In order to prolong the useful life of electrode and improve the efficiency of current,and to reduce the pollution of nickel on electrolyte and the cost of producing NF_3,the nickel anode was substituted by carbon anode in the course of producing nitrogen trifluoride(NF_3).
为提高电极的应用时间、提高电解槽的电流效率、降低镍对电解质的污染和降低生产成本,将现行制备三氟化氮(NF3)的阳极材料由镍换为碳。
6) electronic grade molybdenum hexafluoride
电子级六氟化钼
补充资料：电子级三氟化氮
分子式：NF3
CAS号：
性质： 常温下是无色有毒气体。高纯三氟化氮几乎没有气味，但工业用三氟化氮，由于有活性氟存在，因而有刺激性气味。TLV29mg/m3。它是一种热力学稳定的氧化剂。沸点-129℃。熔点-206.8℃。其制法是在熔融NH4F存在下将氨直接氟化，反应产物经除雾，淋洗，分子筛吸附，真空蒸馏，最后采用低温法收集产品。三氟化氮是微电子工业中一种重要的刻蚀气体、对硅和氮化硅的刻蚀具有更高的速率和选择性。还可用于高能化学激光器。
CAS号：
性质： 常温下是无色有毒气体。高纯三氟化氮几乎没有气味，但工业用三氟化氮，由于有活性氟存在，因而有刺激性气味。TLV29mg/m3。它是一种热力学稳定的氧化剂。沸点-129℃。熔点-206.8℃。其制法是在熔融NH4F存在下将氨直接氟化，反应产物经除雾，淋洗，分子筛吸附，真空蒸馏，最后采用低温法收集产品。三氟化氮是微电子工业中一种重要的刻蚀气体、对硅和氮化硅的刻蚀具有更高的速率和选择性。还可用于高能化学激光器。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条