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1)  silicon tetrachloride
高纯四氟化碳
2)  high purity silicon tetrafluoide
高纯四氟化硅
3)  high purity titanium tetrafluoride
高纯四氟化钛
4)  carbon tetrafluoride
四氟化碳
1.
The method how to remove carbon fluoride impurities, for example ethane hexafluoride (C_(2)F_(6)), from raw carbon tetrafluoride (CF_(4)) in a medium-pressure and low-temperature (-60 ℃,2.
讨论了通过低温加压精馏(-60℃、2 0MPa)除去四氟化碳中六氟乙烷等氟碳杂质,以达到4N级四氟化碳对氟碳杂质浓度的要求。
2.
In the article, mostly works are concerned for carbon tetrafluoride standard gas,supply a gap of our country in this field,and explore the new technique of use electron balance to make up standard gas.
本文的主要工作是研制氮中四氟化碳标准气体,填补我国在这一领域的空白,并探索应用电子天平配制标准气体的新方法。
3.
In the occurrence of arcs discharges, spark discharges and corona discharges, sulfur hexafluoride (SF6) would be decomposed to complicated byproducts such as sulfur dioxide (SO2), carbon tetrafluoride (CF4), etc.
六氟化硫(SF6)气体在电弧、电火花和电晕放电的作用下会发生分解,产生二氧化硫(SO2)、四氟化碳(CF4)等分解产物。
5)  carbon tetrafluoride
四氟化碳 CT
6)  High-Purity Lithium Fluoride
高纯氟化锂
补充资料:四氟化碳
      分子式CF4。常温下为无色气体;熔点-184℃,沸点-128℃,密度1.96克/厘米3(-184℃)。四氟化碳只能微溶于水;对热非常稳定,化学性质比四氯化碳更不活泼。分子呈正四面体结构。
  
  在常温下使单质氟与碳直接反应,或在300℃下使四氯化碳与氟化银反应,都能生成四氟化碳。四氟化碳可用于制作低温液体压力计,也可做溶剂、润滑剂和绝缘材料。
  

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