1) 248 nm photoresists
248nm光刻胶
3) photoresist
[,fəutəuri'zist]
光刻胶
1.
Progress in the Research of Chemical Amplified Photoresist;
化学放大光刻胶高分子材料研究进展
2.
Research on thick photoresist mask electroplating process in micro-fabrication;
微加工厚光刻胶掩膜电镀工艺研究
3.
Key technique of photoresist through-mask Electrochemical micromachining;
光刻胶掩膜微细电化学加工参数的试验研究
4) 193 nm photoresist
193nm光刻胶
1.
2-methyl adamantine-2-yl methacrylate and 2-ethyl adamantine-2-yl methacrylate are two important monomers of matrix polymer for 193 nm photoresist.
甲基丙烯酸(2-甲基-2-金刚烷)酯和甲基丙烯酸(2-乙基-2-金刚烷)酯是两个重要的193nm光刻胶主体树脂的单体。
5) photo resist
光刻胶
1.
The resolution of the BP-218 UV photo resist,which is produced in Beijing Institute of Chemical Reagents,was tested by these methods and a satisfactory result was got.
文章提出了三种微光学元件光刻对焦方法,并用它们对北京化学试剂研究所生产的BP-218紫外正型光刻胶的分辨率进行了测试,得到了满意的结果。
6) negative-working photoresist
负胶光刻
补充资料：聚酯光刻胶
分子式：
CAS号：
性质： 聚酯型光刻胶的化学组成为聚亚肉桂基丙二酸乙二醇酯，是一种具有高分辨率的负性抗蚀剂。它的抗蚀性能好，与SiO2及铝表面有较强的黏附力，分辨率可达1μm，用于高分辨率光刻工艺中。制备聚亚肉桂基丙二酸乙二醇酯，一般先以肉桂醛与丙二酸在吡啶催化下缩合成亚肉桂基丙二酸，再以对甲苯磺酸为缩聚催化剂，由亚肉桂基丙二酸和乙二醇直接缩合制得。
CAS号：
性质： 聚酯型光刻胶的化学组成为聚亚肉桂基丙二酸乙二醇酯，是一种具有高分辨率的负性抗蚀剂。它的抗蚀性能好，与SiO2及铝表面有较强的黏附力，分辨率可达1μm，用于高分辨率光刻工艺中。制备聚亚肉桂基丙二酸乙二醇酯，一般先以肉桂醛与丙二酸在吡啶催化下缩合成亚肉桂基丙二酸，再以对甲苯磺酸为缩聚催化剂，由亚肉桂基丙二酸和乙二醇直接缩合制得。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条