1) photoresist grating
光刻胶光栅
1.
High temperature resistant photoresist grating molding fabrication and replication technique and its application;
耐高温光刻胶光栅模板的制作与转移技术及其应用
2.
A new technique for controlling the duty cycle(ratio of ridge width to period) of photoresist gratings made on top of a multilayer dielectric stack is studied.
研究一种控制多层介质膜上的光刻胶光栅掩模占宽比(线宽与周期之比)的新方法。
2) rectangular photoresist grating
矩形光刻胶光栅
3) Photoresist grating masks
光刻胶光栅掩模
4) ruled grating
刻划光栅
1.
Analytical method of the diffraction characteristic of ruled grating based on profile fitting function;
基于槽形函数拟合的刻划光栅衍射特性分析方法
5) line-profiles
光栅刻线
1.
Study on line-profiles of variable line-space plane gratings with holographic recording;
全息平面变间距光栅刻线弯曲程度分析
6) gate lithography
栅光刻
1.
On the basic of the detail theoretical analysis,the problem of photoresist deformation caused by high electron irradiation during online monitor of gate lithography process was overcome by an innovative method.
阐述了扫描电子显微镜在解决栅光刻在线监测中遇到的问题和解决过程。
补充资料：负性光刻胶
分子式：
CAS号：
性质：光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺，具有加工精度高，容易自动化等特点，广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化，以实现对被照材料本身或者被其覆盖材料加工处理的聚合材料。在这类材料中最重要的是在集成电路、激光照排制版和印刷电路制备中使用的光刻胶。根据光与聚合物之间发生的作用机理不同，可以分成光聚合或光交联型光刻胶，也称为负性光刻胶；光分解型光刻胶，也称为正性光刻胶。除了光刻胶之外，光敏涂料，光敏胶等在广义上也属于光加工高分子材料。采用激光引发聚合直接将聚合物零件加工成型的方法也引起工业界的广泛关注，成为结构复杂高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成员，其特点是摆脱了模具束缚，可以完全由计算机设计、控制加工。
CAS号：
性质：光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺，具有加工精度高，容易自动化等特点，广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化，以实现对被照材料本身或者被其覆盖材料加工处理的聚合材料。在这类材料中最重要的是在集成电路、激光照排制版和印刷电路制备中使用的光刻胶。根据光与聚合物之间发生的作用机理不同，可以分成光聚合或光交联型光刻胶，也称为负性光刻胶；光分解型光刻胶，也称为正性光刻胶。除了光刻胶之外，光敏涂料，光敏胶等在广义上也属于光加工高分子材料。采用激光引发聚合直接将聚合物零件加工成型的方法也引起工业界的广泛关注，成为结构复杂高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成员，其特点是摆脱了模具束缚，可以完全由计算机设计、控制加工。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条