1) 193 nm projection lithography
193nm投影光刻
2) 193 nm photoresist
193nm光刻胶
1.
2-methyl adamantine-2-yl methacrylate and 2-ethyl adamantine-2-yl methacrylate are two important monomers of matrix polymer for 193 nm photoresist.
甲基丙烯酸(2-甲基-2-金刚烷)酯和甲基丙烯酸(2-乙基-2-金刚烷)酯是两个重要的193nm光刻胶主体树脂的单体。
3) 193 nm lithography equipment
193nm光刻机
5) nm optical lithography
193nm光学光刻
6) Projection lithography
投影光刻
1.
Soft X-ray projection lithography technology;
软X射线投影光刻技术及其发展
2.
Design of diffractive optical elements for off-axis illumination in projection lithography;
投影光刻离轴照明用衍射光学元件设计
3.
Soft X-ray projection lithography is expected as a candidate for VLSI p roduction in the near future.
软 X射线投影光刻作为特征线宽小于 0 。
补充资料：[3-(aminosulfonyl)-4-chloro-N-(2.3-dihydro-2-methyl-1H-indol-1-yl)benzamide]
分子式：C16H16ClN3O3S
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条