1) plasma enhanced magnetic sputtering
辅助增强磁控溅射
2) ion beam assisted magnetron sputtering
离子束辅助磁控溅射
1.
Cr-Cu-N films were deposited using low energy ion beam assisted magnetron sputtering (IBAMS).
应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。
3) plasma enhanced magnetron sputtering
等离子增强磁控溅射
1.
This paper presents a plasma enhanced magnetron sputtering (PEMS) technology, by which Ti–Si–C–N nanocomposite coatings are systematically studied.
介绍了等离子增强磁控溅射(PEMS)技术,系统研究了其制备的Ti–Si–C–N纳米复合膜层。
4) PARMS
等离子辅助反应磁控溅射
5) plasma enhanced magnetron sputtering deposition
等离子体增强磁控溅射沉积
1.
Al_2O_3 films of RF plasma enhanced magnetron sputtering deposition;
射频等离子体增强磁控溅射沉积Al_2O_3膜
补充资料：辅助
①从旁帮助：多加～。②辅助性的；非主要的：～劳动ㄧ～人员。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条