1) ion assisted sputtering
离子辅助溅射
2) ion beam assisted magnetron sputtering
离子束辅助磁控溅射
1.
Cr-Cu-N films were deposited using low energy ion beam assisted magnetron sputtering (IBAMS).
应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。
3) ion beam aided sputtering deposition
离子束辅助溅射沉积
4) PARMS
等离子辅助反应磁控溅射
5) ion sputtering
离子溅射
1.
Application of ion sputtering in plasma nitriding of austenitic stainless steel
离子溅射在奥氏体不锈钢离子渗氮中的应用
2.
Effect of ion sputtering platinum on photocatalytic degradation of ethylene in the environment of cold storage
离子溅射Pt对光催化降解冷藏环境中乙烯的影响
3.
Silicate substrates were coated by ion sputtering with nickel,and then used to catalyze the decomposition of low hydrocarbons to prepare the relatively well distributed carbon nanotubes films(CNFs).
1 实验部份1 1 镀膜与后处理采用离子溅射法在硅酸盐基板上镀镍,镀镍电流7 5mA,镀镍时间分别为2min、15min、30min、45min或60min;对镀镍基板再进行蚀刻(蚀刻电流7 5mA,蚀刻时间2min)或用氨水浸泡处理(含NH325%,超声振荡30min),然后烘干备用。
6) Ion assisted deposition
离子辅助
1.
ZnS and YbF3 were used as the materials and produced by means of ion assisted deposition.
6μm的激光器,选用了ZnS和YbF3作为膜料,采用离子辅助沉积技术,在多光谱ZnS基底上制备了650nm反射10。
补充资料：溅射离子泵（scatteringionpump）
溅射离子泵（scatteringionpump）
溅射离子泵的结构如图。阳极为一薄壁不锈钢筒，阴极为两块薄钛板，分置阳极两方。阳极、阴极一同装于不锈钢外壳中，整个壳体装于一磁场中，磁力线方向平行于阳极筒轴向，磁通密度约1000～2000Gs，工作时极间电压为3～7kV产生潘宁放电，这是一种在很低压强下仍能自持的放电，所以能运用于高真空和超高真空。放电产生的离子轰击阴极时引起金属钛的溅射，溅射的钛沉积于阳极筒内壁及阴极上离子轰击较少的部位。不断地形成新鲜的活性钛膜，吸附气体分子。同时又连续地掩埋吸附于阳极筒内壁及阴极边角部位的气体分子（对惰性气体也有效），形成泵的抽气作用。真空度可达10-11Torr量级。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条