1) DUV Deep Ultra-Violet
纵深紫外光
3) deep ultraviolet laser
深紫外光源
5) deep UV lithography
深紫外曝光
1.
Photonic crystals and waveguide devices suitable for 248 nm deep UV lithography and 0.
在大量计算和优化的基础上,设计了适于248nm深紫外曝光和0。
6) UV deep lithography
紫外深度光刻
1.
Correction of pattern transfer errors for SU-8 UV deep lithography;
SU-8紫外深度光刻的误差及修正(英文)
补充资料：深紫外光致抗蚀剂
分子式：
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条