1) the distribution of the deep UV light intensity
深紫外光强度分布
2) UV deep lithography
紫外深度光刻
1.
Correction of pattern transfer errors for SU-8 UV deep lithography;
SU-8紫外深度光刻的误差及修正(英文)
5) UV spectrophotometry
紫外分光光度法
1.
Analysis of reaction solutions in direct electrosynthesis process of paminophenol by double-wavelength UV spectrophotometry;
对氨基苯酚直接电还原合成反应液的等吸收点双波长紫外分光光度法分析
2.
Determination of soybean isoflavone by UV spectrophotometry;
紫外分光光度法测定大豆异黄酮含量
3.
The analytic determination of microdosis acrylamide by UV spectrophotometry;
紫外分光光度法分析测定微量丙烯酰胺的研究
6) UV-spectrophotometry
紫外分光光度法
1.
Study on the Extraction Optimization of Flavonoids from Scutellaria baicalensis by UV-spectrophotometry;
紫外分光光度法优选黄芩总黄酮的提取工艺研究
2.
Study on Quantitative Determination of Ellagic Acid by UV-spectrophotometry;
紫外分光光度法测定鞣花酸含量的研究
3.
Determination of titanium dioxide content in polyester fiber by UV-spectrophotometry;
紫外分光光度法测定聚酯纤维中二氧化钛含量
补充资料：深紫外光致抗蚀剂
分子式：
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条