1) DUV excimer laser
深紫外准分子激光
1.
A real-time exposure dose control algorithm for DUV excimer lasers in a step and scan projection lithography is presented.
提出了一种面向步进扫描投影光刻机的深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法。
2) UV excimer laser
紫外准分子激光
1.
In the paper,the experiment with UV excimer laser etching PI for micropatterns is described in detail.
主要描述了紫外准分子激光刻蚀聚酰亚胺 (polyimide ,PI)制作微图案实验。
3) exciamer laser UV
准分子紫外激光
补充资料：准分子激光器
分子式：
CAS号：
性质：用激基复合物为工作介质时得到的脉冲式相干辐射光源。更恰当的名称应当是激基复合物激光器。典型的激光介质有稀有气体的卤化物(如Xe-Cl，KrF等)。发射波长在紫外区。
CAS号：
性质：用激基复合物为工作介质时得到的脉冲式相干辐射光源。更恰当的名称应当是激基复合物激光器。典型的激光介质有稀有气体的卤化物(如Xe-Cl，KrF等)。发射波长在紫外区。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条