1) vacuum deposited circuit
真空沉积电路
2) vacuum arc deposit
真空电弧沉积
1.
Ti(C,N) deposits on high speed steel slice and single crystal silicon slice were prepared by plasma auxiliary vacuum arc deposition technology.
利用等离子辅助真空电弧沉积技术分别在高速钢片和单晶硅片制备了Ti(C,N)涂层,通过X 射线衍射和扫描电镜研究了不同离子加速电压对单晶硅片上涂层结构和组织形貌的影响,并测定了高速钢片上涂层的显微硬度,同时进行了耐磨性实验。
3) vacuum arc deposition(VAD)
真空电弧沉积(VAD)
4) Vacuum deposition
真空沉积
1.
A new Parylene C coatings was prepared by vacuum deposition process.
用真空沉积技术制备了聚氯代对二甲苯(Parylene C)涂膜,考核了聚氯代对二甲苯涂膜与特种材料的附着力及涂膜的拉伸性能、耐化学介质性能、表面抗静电性能,并对具有复杂形状的工件表面进行均匀涂覆作了探索研究。
2.
The effect of neodymium on the silver nanoparticles prepared by vacuum deposition has been studied by TEM, EDX, HEED and XRD.
稀土元素作为微米级晶粒细化剂在有色和黑色金属工业中已经得到广泛应用,试验采用TEM,EDX,HEED和XRD方法研究了稀土钕对真空沉积的纳米级银粒子的细化作用。
3.
The article introduces the importancethe of three proofings technology in the national defense industry , explained parylene coat ’s vacuum deposition mechanism , excellent application performance ,and limitations of the coating technology.
介绍三防技术在国防工业中的重要性,分析Parylene涂层的真空沉积机理、优异的使用性能及其涂敷工艺的局限
5) vacuum of deposition
沉积真空
6) vacuum cathodic arc deposition
真空阴极电弧沉积
补充资料：真空沉积
分子式：
CAS号：
性质：真空中，在工件表面上沉积金属薄覆层的过程。
CAS号：
性质：真空中，在工件表面上沉积金属薄覆层的过程。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条