3) ultraviolet positive photoresist
紫外正性光刻胶
5) deep ultraviolet positive photoresist
远紫外正性光刻胶
6) UV lithography
紫外厚胶光刻
1.
The UV lithography technology of SU-8 photoresist and its application in 3-D MEMS inductors are re-ported.
研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用。
补充资料：负型光刻胶去膜剂
分子式：
CAS号：
性质：主要成分为苯酚加溶剂。红色透明液体。能与水、醇等溶剂互溶，有毒且有腐蚀性。适用于去除负型光刻胶光刻后的胶膜以及同类型光刻胶膜的去除。
CAS号：
性质：主要成分为苯酚加溶剂。红色透明液体。能与水、醇等溶剂互溶，有毒且有腐蚀性。适用于去除负型光刻胶光刻后的胶膜以及同类型光刻胶膜的去除。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条