1) Deep?UV resist
远紫外光刻胶
2) DUV lithography
远紫外光刻
3) deep ultraviolet negative photoresist
远紫外负性光刻胶
4) deep ultraviolet positive photoresist
远紫外正性光刻胶
6) deep uv lithography
远紫外线光刻
补充资料:远紫外光感光树脂
分子式:
CAS号:
性质:指对深紫外光敏感的感光树脂。深紫外光指波长在250nm左右的光线,能量较高,因此可供选择的树脂较多;目前使用较多的是丙烯酸酯衍生物,或者聚砜类树脂。光的波长较短,作为光刻胶有利于提高分辨率。但是对环境和使用的透光材料有较高要求,因此使用的仪器设备复杂昂贵。根据吸收光后发生光降解或光交联,也可以分成正性和负性深紫外感光树脂。
CAS号:
性质:指对深紫外光敏感的感光树脂。深紫外光指波长在250nm左右的光线,能量较高,因此可供选择的树脂较多;目前使用较多的是丙烯酸酯衍生物,或者聚砜类树脂。光的波长较短,作为光刻胶有利于提高分辨率。但是对环境和使用的透光材料有较高要求,因此使用的仪器设备复杂昂贵。根据吸收光后发生光降解或光交联,也可以分成正性和负性深紫外感光树脂。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条