1) DUV lithography
远紫外光刻
2) Deep?UV resist
远紫外光刻胶
3) deep uv lithography
远紫外线光刻
4) extreme ultraviolet lithography
远紫外线金属版印刷,远紫外光刻
5) extreme ultraviolet lithography
极端远紫外线光刻
6) deep ultraviolet negative photoresist
远紫外负性光刻胶
补充资料:紫外光刻胶
分子式:
CAS号:
性质:用紫外光作曝光光源的光刻胶。一般是指分光感度波长为300~450nm的近紫外抗蚀剂。紫外光刻胶有负性、正性和正-负性两用三类。负性的代表品种是聚乙烯醇肉桂酸酯、环化橡胶系抗蚀剂,正性代表品种是重氮萘醌系抗蚀剂,正负性抗蚀剂是为了兼顾其既有正性又有负性的性能,往往会给全面照顾抗蚀剂应用上带来一些难题,目前尚未商品化。
CAS号:
性质:用紫外光作曝光光源的光刻胶。一般是指分光感度波长为300~450nm的近紫外抗蚀剂。紫外光刻胶有负性、正性和正-负性两用三类。负性的代表品种是聚乙烯醇肉桂酸酯、环化橡胶系抗蚀剂,正性代表品种是重氮萘醌系抗蚀剂,正负性抗蚀剂是为了兼顾其既有正性又有负性的性能,往往会给全面照顾抗蚀剂应用上带来一些难题,目前尚未商品化。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条