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1)  ultraviolet resist
紫外线敏感光刻胶
2)  uv emulsion
紫外线光敏乳胶
3)  UV resist
紫外光刻胶
4)  ultraviolet lithography
紫外线光刻
5)  U.V. positive photoresist
紫外正型光刻胶
6)  UV lithography
紫外厚胶光刻
1.
The UV lithography technology of SU-8 photoresist and its application in 3-D MEMS inductors are re-ported.
研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用。
补充资料:紫外光刻胶
分子式:
CAS号:

性质:用紫外光作曝光光源的光刻胶。一般是指分光感度波长为300~450nm的近紫外抗蚀剂。紫外光刻胶有负性、正性和正-负性两用三类。负性的代表品种是聚乙烯醇肉桂酸酯、环化橡胶系抗蚀剂,正性代表品种是重氮萘醌系抗蚀剂,正负性抗蚀剂是为了兼顾其既有正性又有负性的性能,往往会给全面照顾抗蚀剂应用上带来一些难题,目前尚未商品化。

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