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1)  UV lithography
紫外厚胶光刻
1.
The UV lithography technology of SU-8 photoresist and its application in 3-D MEMS inductors are re-ported.
研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用。
2)  UV resist
紫外光刻胶
例句>>
3)  U.V. positive photoresist
紫外正型光刻胶
例句>>
4)  Deep?UV resist
远紫外光刻胶
5)  248nm deep-UV photoresist
248nm深紫外光刻胶
例句>>
6)  ultraviolet positive photoresist
紫外正性光刻胶
补充资料：紫外固化胶黏剂
分子式：
CAS号：

性质：通过紫外线照射使不饱和双键打开，发生交联而固化的胶黏剂。其特点是固化速度快，固化温度低，无污染，节能。主要有丙烯酸酯体系和不饱和聚酯体系。

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