1) hydrogen-free carbon films
无氢碳膜
1.
Applying this technique,it is very easy to implement ion beam assisted deposition(IBAD) in the film deposition process by using the physical vapor deposition(PVD) approach,thus preparing hydrogen-free carbon films with excellent characteristics.
应用这种技术,采用物理气相沉积(PVD)方法,很容易实现镀膜过程中的离子束辅助沉积(IBAD),从而制备出性能优异的无氢碳膜。
2) a C:H films
氢化碳膜
1.
The sensitivity of QCM sensors coated with the a C∶H films increases with the thickness of recognition coatings within certain ranges.
以正丁胺作为碳源，在石英晶体微量天平（ＱＣＭ）上淀积氢化碳膜制成ＱＣＭ传感器。
3) hydrogenated carbon film
碳氢膜
1.
Study on the preparation of high barrier hydrogenated carbon film and its properties;
高阻隔碳氢膜的制备及性能研究
4) hydrogen-free carburizing
无氢渗碳
1.
The preparation processing parameter study of the double glow discharge plasma hydrogen-free carburizing on titanium alloy surface;
钛合金双层辉光放电离子无氢渗碳制备工艺研究
2.
Using the double glow plasma hydrogen-free carburizing method carry through surface strengthen to enhance titanium alloy surface intension,Can avoid brittleness.
采用双层辉光离子无氢渗碳的方法对钛合金进行表面强化处理,提高了钛合金的表面强度,改善了其耐磨性；同时避免了氢脆的产生。
3.
A carburized layer composed of hardness phase TiC and free state phase C were formed on titanium alloy Ti6Al4V surface by using the double glow plasma hydrogen-free carburizing which enhanced titanium alloy\'s wear resistance,and avoided hydrogen brittleness.
使用双层辉光离子无氢渗碳技术,在钛合金Ti6Al4V表面形成了一层包含高硬度相TiC和游离态C元素组成的表面改性层,用于提高钛合金的耐磨性,同时避免了氢脆的发生。
5) non-hydrogen carburizing
无氢渗碳
1.
A new method, arc-added glow discharge plasma non-hydrogen carburizing on surface of titanium alloy (Ti-6A1-4V), is introduced in this paper.
提出了一种新的钛合金表面强化方法 ,利用加弧辉光离子无氢渗碳技术在钛合金表面形成渗碳层 ,从减摩和抗磨两个方面提高钛合金表面的摩擦学性能。
2.
A new method-double-glow discharged plasma non-hydrogen carburizing on the surface of titanium alloy(Ti-6Al-4V) is introduced.
999%的高纯氩气对 Ti-6Al-4V 钛合金进行无氢渗碳。
6) a-C:H film
非晶碳氢膜
1.
An amorphous hydrogenated carbon thin film(a-C:H film) on polyethyle-neterephthalate (PET) was fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition(PECVD) with methane as the source of carbon , argon as dilution gas.
本课题采用射频等离子体增强化学气相沉积法(PECVD),以甲烷气体为碳源,氩气为稀释气体,在聚酯(PET)上沉积非晶碳氢膜。
补充资料：全氟碳离子交换膜
分子式：
CAS号：
性质：又称全氟离子交换膜。有全氟磺酸膜Rf-SO3H、全氟羧酸膜Rf-COOH及全氟磺酸全氟羧酸复合膜，即一面为全氟磺酸膜，另一面为全氟羧酸膜，由两种膜经真空加压复合而成，或由全氟磺酸膜的一个侧面经化学改性成磺酸膜。全氟磺酸树脂和全氟羧酸树脂的成膜方法有压延、挤塑、模塑等。全氟碳离子交换膜与一般商品膜相比，具有许多特殊性能，即耐高温、耐化学品性，能在90℃高温下耐40%左右高浓度碱（NaOH）、初生态O2及Cl2气的腐蚀和氧化。主要用于食盐电解制高纯碱（亦称离子膜碱）等方面。
CAS号：
性质：又称全氟离子交换膜。有全氟磺酸膜Rf-SO3H、全氟羧酸膜Rf-COOH及全氟磺酸全氟羧酸复合膜，即一面为全氟磺酸膜，另一面为全氟羧酸膜，由两种膜经真空加压复合而成，或由全氟磺酸膜的一个侧面经化学改性成磺酸膜。全氟磺酸树脂和全氟羧酸树脂的成膜方法有压延、挤塑、模塑等。全氟碳离子交换膜与一般商品膜相比，具有许多特殊性能，即耐高温、耐化学品性，能在90℃高温下耐40%左右高浓度碱（NaOH）、初生态O2及Cl2气的腐蚀和氧化。主要用于食盐电解制高纯碱（亦称离子膜碱）等方面。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条