1) fluorinated amorphous hydrocarbon film
氟化非晶碳氢薄膜
1.
Infrared structure and electrical characteristics of the fluorinated amorphous hydrocarbon film;
氟化非晶碳氢薄膜的红外结构及其电学特性
2) fluorinated amorphous carbon film
氟化非晶碳薄膜
1.
As one of promising interlay dielectrics used in the future ULSI, fluorinated amorphous carbon film (a-C: F) has been attracted intensively.
利用静电探针和光强标定的发射光谱(AOES)研究了CHF_3、CHF_3／C_6H_6气体ECR放电等离子体的特性及氟化非晶碳薄膜(a-C：F)的结构与等离子体空间基团分布的关系。
3) Hydrogenated amorphous carbon films
氢化非晶碳薄膜
4) a_-C:F:N films
氮掺杂氟化非晶碳薄膜
5) amorphous silicon carbon films
非晶氢化硅碳薄膜
6) Amorphous fluorinated carbon film
非晶氟碳薄膜
1.
Amorphous fluorinated carbon films have been prepared from the gaseous mixture of CH 4 and C 4F 8 by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method.
以C4 F8 和CH4 为原料气 ,通过等离子体增强化学气相淀积的方法制备了非晶氟碳薄膜 ,在实验条件下所得薄膜的介电常数为 2 3。
补充资料：稀土-铁族金属非晶薄膜磁光材料
分子式：
CAS号：
性质：用稀土和铁族金属制成的薄膜磁光材料其组成、电和磁性能及单轴各向异性受沉积条件及靶材成分影响。非晶态霍耳电压(VH)与磁场关系和极向克尔磁带回线相似，在补偿温度(Tcomp)附近，霍尔系数R1改变符号，当T<Tcomp时，R1为负，相反为正。其制备方法为高频溅射、真空蒸发、磁控溅射等。
CAS号：
性质：用稀土和铁族金属制成的薄膜磁光材料其组成、电和磁性能及单轴各向异性受沉积条件及靶材成分影响。非晶态霍耳电压(VH)与磁场关系和极向克尔磁带回线相似，在补偿温度(Tcomp)附近，霍尔系数R1改变符号，当T<Tcomp时，R1为负，相反为正。其制备方法为高频溅射、真空蒸发、磁控溅射等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条