1) a-C:H film
非晶碳氢膜
1.
An amorphous hydrogenated carbon thin film(a-C:H film) on polyethyle-neterephthalate (PET) was fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition(PECVD) with methane as the source of carbon , argon as dilution gas.
本课题采用射频等离子体增强化学气相沉积法(PECVD),以甲烷气体为碳源,氩气为稀释气体,在聚酯(PET)上沉积非晶碳氢膜。
2) Hydrogenated amorphous carbon films
氢化非晶碳薄膜
3) Hydrogenated amorphous carbon thin films
含氢非晶碳膜
1.
Hydrogenated amorphous carbon thin films were deposited on silicon substrates using end-hall plasma ion source.
采用端部霍尔离子源在硅基底上制备了含氢非晶碳膜(a-C:H),并测量了4 000～1 500 cm-1的红外透射光谱。
4) CH films
非晶碳氢薄膜
1.
Amorphous hydrogenated carbon films(α:CH films) are fabricated by low pressure plasma chemical vapor deposition method.
利用低压等离子体化学气相沉积法制备厚度不同的非晶碳氢薄膜,采用X射线反射法测量了非晶碳氢薄膜的密度和厚度。
5) nitrogen_depped amorphous hydrogenated carbon films
掺氮非晶碳氢膜
6) fluorinated amorphous hydrocarbon film
氟化非晶碳氢薄膜
1.
Infrared structure and electrical characteristics of the fluorinated amorphous hydrocarbon film;
氟化非晶碳氢薄膜的红外结构及其电学特性
补充资料：多孔碳晶须
分子式：
CAS号：
性质：具有多微孔表面的碳晶须。比表面积20.6m2/R，比表面积比2.1～17.8，弯曲强度和模量各为155～208MPa和5.7～6.3GPa。对树脂等基体具有良好的黏合性。制法是将直径0.8μm，平面形状比46，相对密度1.96和比表面积2.58m2/g的气相成长碳晶须，边加热至1000℃边与水蒸气和氮混合气接触而得。用于作塑料、陶瓷、金属和橡胶基复合材料增强剂及层间化合物的晶核等。
CAS号：
性质：具有多微孔表面的碳晶须。比表面积20.6m2/R，比表面积比2.1～17.8，弯曲强度和模量各为155～208MPa和5.7～6.3GPa。对树脂等基体具有良好的黏合性。制法是将直径0.8μm，平面形状比46，相对密度1.96和比表面积2.58m2/g的气相成长碳晶须，边加热至1000℃边与水蒸气和氮混合气接触而得。用于作塑料、陶瓷、金属和橡胶基复合材料增强剂及层间化合物的晶核等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条