2) deep ultraviolet laser
深紫外光源
4) deep UV lithography
深紫外曝光
1.
Photonic crystals and waveguide devices suitable for 248 nm deep UV lithography and 0.
在大量计算和优化的基础上,设计了适于248nm深紫外曝光和0。
5) DUV Deep Ultra-Violet
纵深紫外光
6) UV deep lithography
紫外深度光刻
1.
Correction of pattern transfer errors for SU-8 UV deep lithography;
SU-8紫外深度光刻的误差及修正(英文)
补充资料：深紫外光致抗蚀剂
分子式：
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条