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1)  RF/DC sputtering
RF/DC溅射
1.
Research on microstructure and mechanics properties of 316L stainless steel/SiO_2 ceramic composite film prepared by RF/DC sputtering;
RF/DC溅射316L/SiO_2复合膜力学性能与显微结构的研究
2)  RF sputtering
RF溅射
3)  RF co sputtering
RF共溅射
4)  RF-sputtering
RF-溅射
5)  R.F. Sputtering
RF溅射法
6)  RF magnetron sputtering
RF磁控溅射
1.
Annealing effect on mechanical properties of RF magnetron sputtering ZnO thin film;
退火温度对RF磁控溅射ZnO薄膜力学性能的影响
2.
Influence of RF magnetron sputtering processes on morphology of TiNi_(1-x)Cu_x alloy films;
RF磁控溅射工艺对TiNi_(1-x)Cu_x合金薄膜组织形貌的影响
3.
The zinc oxide (ZnO) thin films were deposited on Si(100) substrate by RF magnetron sputtering technique.
通过RF磁控溅射在Si(100)基片上制备了ZnO薄膜,并研究了磁控溅射中各生长参数,如衬底温度、氧分压及后处理工艺等因素对ZnO薄膜微结构、表面形貌与结晶取向的影响。
补充资料:AC-DC-AC-DC型开关稳压电路


AC-DC-AC-DC型开关稳压电路
AC-DC-AC-DC type switching voltage stabilizing circuits

  对小功率的AC一DC一AC一IK!型稳压电路,可省去图中的集成驱动器,由集成控制器直接驱动。AC一DC一AC一】兀型稳压电路组成的开关电源及模块,广泛应用于通信和其他电子设备中作为一次电源用。AC DC ACDCx一rlg伙019七Jo了1 wenyod旧z〕JLJAC一OC一AC一OC型开关稳压电路(AC一DC一AC一IX二type switehing voltage stabilizingcircuits)将交流电压通过整流滤波电路及DC一〔X)开关变换器,并借助反馈环节得到稳定直流输出电压的开关型稳压电路。其原理方框图如图所示。图中输人和输出端都加有噪声溥波器。电容滤波的全波整流电路中,开机时有一大的充电电流流过整流管。为了削弱该冲击电流,在AC一DC一AC一IX{型稳压电路中加人软起动电路。又因电容滤波的整流电路中电流失真很大,使功率因数很低。为了提高功率因数,通常采用功率因数校正技术。90年代以前,采用无源校正技术,只能对基波进行相移补偿或抑制某些指定的谐波。实际应用中,还受到体积、质量、价格等因素的限制。9。年代普遍采用高频有源功率因数校正技术。图中的有源功率因数校正电路实质上是一种升压式有源功率因数校正(b oost一PFC)电路(见DC一DC型开关稳压电路)。它可将稳压电路的输入电流波形变换为与输入电网电压同相位的正弦波,变换效率可大于98%。这样,可以降低线路损耗,节约能源,减小电网的谐波污染。┌───┐ ┌────┐┌─────────┐┌──┐│NF │ ┌───┐│ pFC ││ OC~O(: ││ 哪││,噪声│ │_整流 ││功率因数││ 变换器 ││噪声││健波 │ └───┘│ 校正 ││(含高频整流及滤波)││滤波││ │ │ │└─────────┘│ │└───┘ └────┘ └──┘ ┌─────┐ │ SS │ ┌─────┐ │软起动 │ │集成驱动器│ │ │ └─────┘ └─────┘ ┌─────┐ │集成控制器│ └─────┘ AC一1)C一AC一1)C型开关稳压电路原理方框图
  
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参考词条