1) Mg-Cu-Y films
Mg-Cu-Y薄膜
1.
Mg-Cu-Y films were deposited on AZ31 alloy by unbalanced magnetron sputtering.
采用非平衡磁控溅射方法在AZ31镁合金表面沉积Mg-Cu-Y薄膜,以纯铜和Mg65Cu25Y10合金作为溅射靶材,选则Mg65Cu25Y10单靶、Mg65Cu25Y10靶和铜靶双靶两种方式分别进行溅射沉积。
2) Y-Ba-Cu-O film
Y-Ba-Cu-O薄膜
3) Mg-Cu-Y alloys
Mg-Cu-Y合金
4) Mg-Ni film
Mg-Ni薄膜
5) Y-dopped PZT(40/60) thin films
Y-PZT薄膜
6) Y-ZrO_2 film
Y-ZrO_2薄膜
补充资料：[3-(aminosulfonyl)-4-chloro-N-(2.3-dihydro-2-methyl-1H-indol-1-yl)benzamide]
分子式：C16H16ClN3O3S
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条