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1)  ZnS∶Cu thin films
ZnS∶Cu薄膜
1.
ZnS∶Cu thin films were prepared on ITO(indium tin oxide) substrates using a constant voltage cathodic electrodeposition process.
采用阴极恒电压法在ITO(In2O3-SnO2)导电玻璃表面制备了ZnS∶Cu薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和光致发光谱仪(PL)研究了掺杂浓度对ZnS∶Cu薄膜的物相组成、显微结构及发光性能的影响。
2)  ZnS film
ZnS薄膜
1.
Study on sputter property and effect of ion source on refractive index of ZnS film;
离子源的溅射特性及其对ZnS薄膜折射率的影响
2.
The ZnS films were deposited on ITO by using constantpotential electro-deposition,and were studied by using X-ray diffraction(XRD),scan electron microscope(SEM),atomic force microscope(AFM) and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) techniques.
利用恒电位电沉积技术实现在ITO导电玻璃上沉积ZnS薄膜,用X射线粉末衍射、扫描电镜、原子力显微镜和X射线光电子能谱对制得的薄膜进行了研究。
3)  ZnS thin film
ZnS薄膜
1.
Influence of annealing on ZnS thin films by PLD;
退火处理对脉冲激光沉积制备ZnS薄膜的影响
2.
Effect of N_2H_4 concentration on ZnS thin film prepared by chemical bath deposition
联氨浓度对化学溶池沉积ZnS薄膜的影响
3.
ZnS thin films were deposited by YAG laser(1064nm) and pulsed XeCl(308nm) laser with radio frequency plasma,varying the deposition temperature.
采用YAG固体激光器(1064nm)和XeCl(308nm)准分子激光器,利用射频辅助脉冲激光沉积技术,研究了在不同沉积温度下对制备ZnS薄膜的影响。
4)  ZnS thin films
ZnS薄膜
1.
The influence of some complexing agents upon chemical bath depositing ZnS thin films;
络合剂对化学水浴沉积ZnS薄膜的影响
2.
A Study of Preparation of ZnS thin films by CBD;
化学浴沉积法制备ZnS薄膜的研究
3.
ZnS thin films were prepared on glass sides by chemical bath deposition(CBD),using zinc sulfate and(NH4)2S2O3 as precursor aqueous solutions,a little amount of sodium citrate is used as complexing agent and glycerol as disperse agent,the surfaces of deposited thin films were homogeneous.
以硫酸锌、(NH4)2S2O3混合溶液为前驱体溶液,加入少量的柠檬酸钠和丙三醇为络合剂和分散剂,采用化学浴沉积法在玻璃衬底上成功制备了表面均匀的ZnS薄膜。
5)  chemical bath deposition
ZnS薄膜
1.
ZnS thin films prepared by chemical bath deposition;
化学水浴法制备ZnS薄膜
6)  ZnS films
ZnS薄膜
1.
Effect of substrate temperature on microstructure and stress of ZnS films;
衬底温度对ZnS薄膜微结构和应力的影响
2.
Optical properties of ZnS films prepared by chemical bath deposition;
化学水浴法制备ZnS薄膜光学性能
3.
Influence of annealing conditions of ZnO films on the properties of ZnS films prepared by sulfurizing ZnO films;
ZnO退火条件对硫化法制备的ZnS薄膜特性的影响
补充资料:Zn

锌是一种蓝白色金属。密度为7.14克/立方厘米,熔点为419.5℃。在室温下,性较脆;100~150℃时,变软;超过200℃后,又变脆。

锌的化学性质活泼,在常温下的空气中,表面生成一层薄而致密的碱式碳酸锌膜,可阻止进一步氧化。当温度达到225℃后,锌氧化激烈。燃烧时,发出蓝绿色火焰。锌易溶于酸,也易从溶液中置换金、银、铜等。

锌的用途

由于锌在常温下表面易生成一层保护膜,所以锌最大的用途是用于镀锌工业。锌能和许多有色金属形成合金,其中锌与铝、铜等组成的合金,广泛用于压铸件。锌与铜、锡、铅组成的黄铜,用于机械制造业。含少量铅镉等元素的锌板可制成锌锰干电池负极、印花锌板、有粉腐蚀照像制板和胶印印刷板等。锌与酸或强碱都能发生反应,放出氢气。锌肥(硫酸锌、氯化锌)有促进植物细胞呼吸、碳水化合物的代谢等作用。锌粉、锌钡白、锌铬黄可作颜料。氧化锌还可用于医药、橡胶、油漆等工业。

自然界中,锌多以硫化物状态存在。主要含锌矿物是闪锌矿。也有少量氧化矿,如菱锌矿和异锌矿。

元素名称:锌

元素原子量:65.39

元素类型:金属

发现人: 发现年代:

发现过程:

元素描述:

纯锌呈蓝白色,有光泽。硬度2.5(莫氏硬度)。具有延展性。密度7.14克/厘米3。熔点419.58℃,沸点907℃。化合价2。已知锌有十五个同位素。是很好的导热体和导电体。电离能9.394电子伏特。休学性质比较活泼,但在空气中较稳定,与酸和碱作用会放出氢气。

元素来源:

主要矿石是铁闪锌矿或闪锌矿zns。将矿石在空气中煅烧成氧化锌,然后用炭还原即得;或用硫酸浸出成硫酸锌后,再用电解法将锌沉积出来。

元素用途:

锌的最重要的用途是制造锌合金和作为其他金属的保护层,如电镀锌,以及制造黄铜、锰青铜、白铁和干电池。锌粉是有机合成工业的重要还原剂。

元素辅助资料:

锌和铜的合金——黄铜,早被古人利用,黄铜的生产可能是冶金学上最早的偶然发现之一。但是人们取得锌比较晚,碳和锌矿共热时,温度很快高达1000℃,而锌在923℃沸腾,在此温度下成蒸汽状态,随烟散失,不易为古代人们察觉,只有当人们掌握了冷凝气体的方法后,单质锌才有可能被取得。因此,锌登上历史舞台的时间要比铜、锡、铁、铅晚的多。

据国外学者们考证,我国古代劳动人民首先生产出锌。我国制取锌的方法讲述最清楚的出现在明朝末年宋应星著述的《天工开物》中。西方认为最早讲到锌的是德国贵族政治学家龙涅斯在1617年发表的著述,他叙述在熔铅的炉壁上出现白色的金属,工人们称它为 zinck或conterfeht,这种白色金属像是锡,但比较硬,缺乏延展性,没有太大用途。锌的拉丁名称 zincum和元素符号zn由此而来。

1737年和1746年德国矿物学家亨克尔和化学家马格拉夫先后将菱锌矿与木炭共置陶制密闭容器中烧,得到金属锌。拉瓦锡在1789年发表的元素表中,首先将锌列为元素。

元素符号: zn 英文名: zinc 中文名: 锌

相对原子质量: 65.38 常见化合价: +2 电负性: 1.65

外围电子排布: 3d10 4s2 核外电子排布: 2,8,18,2

同位素及放射线: zn-62[9.26h] zn-63[38.5m] *zn-64 zn-65[243.8d] zn-66 zn-67 zn-68 zn-70 zn-72[46.5h]

电子亲合和能: 9 kj·mol-1

第一电离能: 906 kj·mol-1 第二电离能: 1733 kj·mol-1 第三电离能: 3833 kj·mol-1

单质密度: 7.133 g/cm3 单质熔点: 419.58 ℃ 单质沸点: 907.0 ℃

原子半径: 1.53 埃 离子半径: 0.74(+2) 埃 共价半径: 1.25 埃

常见化合物: zno zn(oh)2 znso4

发现人: 远古就被发现 时间: 0 地点: 德国

名称由来:

德语:zink(在德语中意为“锡”)。

元素描述:

有延展性,带淡蓝光泽的银白色金属。

元素来源:

见于闪锌矿(zns)、异极矿、锌铁矿、菱锌矿(znco3)、硅锌矿和红锌矿中。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条