1) electroformed photomask
电镀形成的光掩模
2) electroformed photomask
电镀形成的光掩膜
3) through-mask electroplating
掩模电镀
1.
Thickness uniformity of Ni microstructure deposited by through-mask electroplating;
掩模电镀镍微结构的镀层均匀性研究
4) photomask pattern
光掩模图形
5) mask evaporation
掩模蒸镀
6) mask plating
掩膜电镀
补充资料:掩模版保护膜
分子式:
CAS号:
性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
CAS号:
性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条