1) Mask distortion
掩模形变
2) mask division
掩模分形
1.
A new technique of mask division for improving the sharpness of mask edge is put forward, which can be used to solve the lowpass filtering problem of the reduction lens in the system of mask fabrication with electrically addressed spatial light modulators.
针对电寻址空间光调制器制作灰度掩模过程中,精缩透镜的低通滤波特性导致灰度掩模边缘锐度下降的问题,提出了掩模分形技术。
3) mask topography
掩模构形
4) photomask distortion
掩模畸变
5) photomask pattern
光掩模图形
6) tapered mask
渐变掩蔽图形
1.
In order to study the uniformity of the MQWs grown in the selective area, novel tapered masks were employed, and the transition effect of the tapered region was also studied.
为了保证选择区域内的MQWs材料的均匀性,我们采用了新型的渐变掩蔽图形,并且运用这种新型渐变掩蔽图形,研究了渐变区域的过渡效应对材料生长的影响。
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条