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1)  maskless electron beam coating equipment
无掩模电子束镀膜设备
2)  ion beam deposition equipment
离子束镀膜设备
3)  electron beam coating equipment
电子束蒸镀设备
4)  electron beam reticle
电子束掩膜
5)  chemical reaction coating equipment by electron beam
电子束化学反应镀膜设备
6)  mask plating
掩膜电镀
补充资料:掩模版保护膜
分子式:
CAS号:

性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。

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参考词条