1) base region mask
基区形成掩模
2) mask definition
掩模图案形成
3) fan-mask
扇区掩模
1.
Laser beam was focused and fan-mask was exposed with the control of computer.
通过计算机控制激光聚焦扫描扇区掩模制作来选择扇区掩模的码道,采用光学光刻的方法制作码盘,取消了传统码盘光刻的精缩物镜和穿孔带。
4) region mask
区域掩模
1.
Firstly,an improved calculation method of the region mask is suggested.
基于G abor滤波器的低质指纹增强技术,对区域掩模及脊线频率的计算进行了改进。
5) maskless wiring formation technology
无掩模布线形成技术
1.
This paper describes the maskless wiring formation technology not using photomask and photoresist,development of metal nano particle and nano ink,application of the inkjet method and future theme.
概述了不使用光致掩模和光致抗蚀剂的无掩模布线形成技术,金属纳米粒子和纳米油墨的研究开发,喷墨法的应用和今后的课题。
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条