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1)  photosensitive film
光敏膜
2)  PbS photosensitization
PbS光敏膜
3)  photoactive thin film
光敏薄膜
1.
The photoactive thin films of poly[2-methoxy-5-(2\'-ethylhexyloxy)-1,4phenylenevinylene] for polymer solar cells and the single-layer devices were prepared on tin-doped indium oxide substrates,followed by annealing treatment.
采用掺锡氧化铟玻璃作为衬底,制备了聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1-4-苯撑乙烯]光敏薄膜及其器件,研究了退火处理对薄膜形貌和光电性能的影响。
4)  Fluorescence sensing membrane
荧光敏感膜
5)  photosensitive film resist
光敏抗蚀膜
6)  Photopolymerized sensitive membrane
光聚合敏感膜
补充资料:溶剂型光敏抗蚀干膜
分子式:
CAS号:

性质:光敏抗蚀干膜有溶剂型和水溶性两种不同类型。由聚酯薄膜、感光层和聚乙烯薄膜三合一的感光膜。中间的感光层由成膜树脂、光聚合单体、光敏引发剂和多种助剂组成。其制法是将感光层的各种组分溶解于溶剂中配成胶液,在一定温度下涂布于聚酯薄膜,收卷成筒,包装成产品。使用时先将聚乙烯保护膜撕去,通过热将将感光层粘压到敷铜板上,再经紫外光曝光,显影时未感光的部分被洗去,感光部分黏附在金属表面形成图形,起抗蚀抗电镀作用。干膜涂布均匀,涂层较厚,图形边缘线条陡直,提供了很高的分辨率。采用三氯乙烷、二甲苯、乙酸丁酯等有机溶剂显影。抗蚀性能强,可耐碱、耐酸性腐蚀和电镀,性能稳定可靠。用于双面及多层电路板的生产,制作精密的耐腐蚀耐电镀图形,稳定性优于水溶性干膜。由于采用溶剂显影,成本高,毒性大,操作不便,污染环境,逐步被水溶性光敏抗蚀干膜所替代。

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