补充资料：水溶性光敏抗蚀干膜

分子式：
CAS号：

性质：其产品结构、制造方法、使用方法、产品性能与溶剂型光敏抗蚀干膜类似。不同之处在于感光层由带水性基团的成膜树脂、光聚合单体、光敏引发剂和多种助剂组成，采用稀碱溶液显影和去膜，改善了生产环境，使用安全，三废容易处理，耐各种酸性蚀刻液和耐酸性镀铜、镀铅锡合金。广泛应用于各种高精度、高密度、高可靠性的双面孔金属化印制电路板与多层印制版的生产和制造，制作精密的耐腐蚀、耐电镀图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。

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