2) Oxidizing layer/Molybdenum disilicide
氧化层/二硅化钼
3) isolated SIO2
二氧化硅隔离层
4) SiO2 insulation layer
二氧化硅绝缘层
5) silica shell
二氧化硅壳层
1.
To prepare water-soluble nanoparticles,tetraethyl orthosilicate(TEOS) was directly added into the same reverse micellar system to grow a consecutive silica shell on ZnS:Mn/CdS nanoparticles surface,using ammonium hydroxide(NH_4OH) as catalyst.
5nm)纳米晶,为获得水溶性纳米晶,继续向此微乳液添加硅酸乙酯(TEOS),并使用氨水作为催化剂,通过TEOS水解缩聚反应,在ZnS:Mn/CdS粒子表面生长连续的二氧化硅壳层。
6) silox pinhole
二氧化硅层针孔
补充资料：二硅化钼陶瓷
分子式：
CAS号：
性质：硅和钼的化合物。通常硅和钼按不同的配比在不同的工艺条件下反应可生成三种化合物。其化学式为：Mo3Si，Mo5Si3和MoSi2。MoSi2属四方晶系，密度为6.3g/cm3，熔点2030℃，常温下电阻为21.6μΩ·cm，高温时抗氧化性能良好。主要用作1700℃以下的氧化气氛中的发热元件。
CAS号：
性质：硅和钼的化合物。通常硅和钼按不同的配比在不同的工艺条件下反应可生成三种化合物。其化学式为：Mo3Si，Mo5Si3和MoSi2。MoSi2属四方晶系，密度为6.3g/cm3，熔点2030℃，常温下电阻为21.6μΩ·cm，高温时抗氧化性能良好。主要用作1700℃以下的氧化气氛中的发热元件。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条