1) sio3capping
二氧化硅复盖层形成
3) Oxidizing layer/Molybdenum disilicide
氧化层/二硅化钼
4) complex silicon dioxide
复配二氧化硅
5) isolated SIO2
二氧化硅隔离层
6) SiO2 insulation layer
二氧化硅绝缘层
补充资料:二硅化钼陶瓷
分子式:
CAS号:
性质:硅和钼的化合物。通常硅和钼按不同的配比在不同的工艺条件下反应可生成三种化合物。其化学式为:Mo3Si,Mo5Si3和MoSi2。MoSi2属四方晶系,密度为6.3g/cm3,熔点2030℃,常温下电阻为21.6μΩ·cm,高温时抗氧化性能良好。主要用作1700℃以下的氧化气氛中的发热元件。
CAS号:
性质:硅和钼的化合物。通常硅和钼按不同的配比在不同的工艺条件下反应可生成三种化合物。其化学式为:Mo3Si,Mo5Si3和MoSi2。MoSi2属四方晶系,密度为6.3g/cm3,熔点2030℃,常温下电阻为21.6μΩ·cm,高温时抗氧化性能良好。主要用作1700℃以下的氧化气氛中的发热元件。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条