1) photoresist masked etching
光刻胶掩蔽腐蚀
3) masking photoresist
掩蔽光刻胶
5) resistless etching
无光刻胶腐蚀
6) metal-etched photomask
金属腐蚀的光刻掩模
补充资料:金属玻璃掩模
分子式:
CAS号:
性质: 以不透光金属薄膜选择地覆盖在玻璃基片上构成的光学掩模版。
CAS号:
性质: 以不透光金属薄膜选择地覆盖在玻璃基片上构成的光学掩模版。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条