1) photolithographic masking operation
光刻掩蔽工序
2) masking photoresist
掩蔽光刻胶
4) photolithographic mask layer
光刻掩蔽层
5) photoresist masked etching
光刻胶掩蔽腐蚀
补充资料：循序
1.依序遵行;顺着次序。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条