1) photomasking
光掩蔽
2) masking photoresist
掩蔽光刻胶
4) mask spectrometer
掩蔽分光计
5) photolithographic mask layer
光刻掩蔽层
6) optical mask
光掩模，光屏蔽
补充资料：光掩蔽
分子式：
CAS号：
性质：产生光掩模版并接着应用它在光致抗蚀剂涂层上开窗口的全部工艺过程和操作。
CAS号：
性质：产生光掩模版并接着应用它在光致抗蚀剂涂层上开窗口的全部工艺过程和操作。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条