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1)  photoresist developer
光刻胶显影剂
2)  developer for negative resist
负型光刻胶显影剂
3)  wash liquid for positive resist
正型光刻胶显影剂
4)  negative resist developer
负性光刻胶显影剂
5)  develop check
光刻胶显影检查
6)  resist scum
未显影光刻胶
补充资料:负型光刻胶显影剂
分子式:
CAS号:

性质:由混合烷烃经1.0μm过滤膜过滤制得。为无色透明液体,易挥发,能与苯类、三氯甲烷、油类等混合,不溶于水,易燃。用于负型光刻胶显影。

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参考词条