1) photoresist developer
光刻胶显影剂
2) developer for negative resist
负型光刻胶显影剂
3) wash liquid for positive resist
正型光刻胶显影剂
4) negative resist developer
负性光刻胶显影剂
5) develop check
光刻胶显影检查
补充资料:负型光刻胶显影剂
分子式:
CAS号:
性质:由混合烷烃经1.0μm过滤膜过滤制得。为无色透明液体,易挥发,能与苯类、三氯甲烷、油类等混合,不溶于水,易燃。用于负型光刻胶显影。
CAS号:
性质:由混合烷烃经1.0μm过滤膜过滤制得。为无色透明液体,易挥发,能与苯类、三氯甲烷、油类等混合,不溶于水,易燃。用于负型光刻胶显影。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条