1) diluent for positive resist
正型光刻胶稀释剂
2) surface treatment chemicals for positive resist
正型光刻胶表面处理剂
3) stripping chemicals for positive resist
正型光刻胶去膜剂
4) wash liquid for positive resist
正型光刻胶显影剂
补充资料：正型光刻胶稀释剂
分子式：
CAS号：
性质：主要成分为醚及酯。无色透明的有机溶剂。易燃，易吸水，应在干燥、远离火源处存放。可用作调整正型光刻胶胶液浓度的稀释剂。
CAS号：
性质：主要成分为醚及酯。无色透明的有机溶剂。易燃，易吸水，应在干燥、远离火源处存放。可用作调整正型光刻胶胶液浓度的稀释剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条