1) stripping chemicals for positive resist
正型光刻胶去膜剂
2) stripping chemical for negative resist
负型光刻胶去膜剂
3) discum
去除光刻胶底膜
4) surface treatment chemicals for positive resist
正型光刻胶表面处理剂
5) diluent for positive resist
正型光刻胶稀释剂
6) wash liquid for positive resist
正型光刻胶显影剂
补充资料：正型光刻胶去膜剂
分子式：
CAS号：
性质：主要成分为苯酚、丙酮和有机胺。棕色油状液体，易燃，当加工基片受到污染或损伤时，可用本品去除正型光刻胶胶膜。
CAS号：
性质：主要成分为苯酚、丙酮和有机胺。棕色油状液体，易燃，当加工基片受到污染或损伤时，可用本品去除正型光刻胶胶膜。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条