1) contactless lithography
无接触光蚀刻
2) contact photolithography
接触光蚀刻
3) resistless lighography
无光刻胶蚀刻
4) contact printing
接触式光刻
5) resistless etching
无光刻胶腐蚀
6) soft contact lithography
软接触式光刻
补充资料:接触式光刻
分子式:
CAS号:
性质:一种原始的复制工艺。将光学掩模版图形面与待光刻区域光致抗蚀剂(或感光乳胶)表面接触而曝光。
CAS号:
性质:一种原始的复制工艺。将光学掩模版图形面与待光刻区域光致抗蚀剂(或感光乳胶)表面接触而曝光。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条