1) tantalum thin-film circuit
钽薄膜电路
2) tantalum-film circuit
钽膜电路
3) tantalum-film circuitry
钽膜电路学
4) tantalum nitride resistance film
氮化钽电阻薄膜
5) tantalum silicon resistance film
钽硅电阻薄膜
6) tantalum dielectric film
钽基介电薄膜
补充资料：氮化钽电阻薄膜
分子式：
CAS号：
性质：一种钽基中低阻薄膜。主成分为氮化钽。具有熔点高(3090℃)、电阻温度系数小和稳定性高的特点。电阻率180～220μΩ/cm，方阻50～100Ω，TCR<-50×10-6/℃。采用溅射法工艺制备。用于制作中低阻薄膜元件。
CAS号：
性质：一种钽基中低阻薄膜。主成分为氮化钽。具有熔点高(3090℃)、电阻温度系数小和稳定性高的特点。电阻率180～220μΩ/cm，方阻50～100Ω，TCR<-50×10-6/℃。采用溅射法工艺制备。用于制作中低阻薄膜元件。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条