1) tantalum aluminium resistance film
钽铝电阻薄膜
2) tantalum nitride resistance film
氮化钽电阻薄膜
3) tantalum silicon resistance film
钽硅电阻薄膜
4) Ta-Al-N thin-films
钽铝氮薄膜
5) tantalum thin-film circuit
钽薄膜电路
6) tantalum dielectric film
钽基介电薄膜
补充资料：钽铝电阻薄膜
分子式：
CAS号：
性质：钽和铝组成的合金薄膜。具有耐蚀性好、精度高、稳定性好和方阻可调范围宽的特点。TCR为(-105～-135)×10-6/℃，方阻为25～1000Ω。采用溅射法工艺制膜。用于制作薄膜电阻元件。
CAS号：
性质：钽和铝组成的合金薄膜。具有耐蚀性好、精度高、稳定性好和方阻可调范围宽的特点。TCR为(-105～-135)×10-6/℃，方阻为25～1000Ω。采用溅射法工艺制膜。用于制作薄膜电阻元件。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条