1) Ta-Al-N thin-films
钽铝氮薄膜
2) TaN film
氮化钽薄膜
3) tantalum aluminium resistance film
钽铝电阻薄膜
4) tantalum nitride resistance film
氮化钽电阻薄膜
补充资料:钽铝电阻薄膜
分子式:
CAS号:
性质:钽和铝组成的合金薄膜。具有耐蚀性好、精度高、稳定性好和方阻可调范围宽的特点。TCR为(-105~-135)×10-6/℃,方阻为25~1000Ω。采用溅射法工艺制膜。用于制作薄膜电阻元件。
CAS号:
性质:钽和铝组成的合金薄膜。具有耐蚀性好、精度高、稳定性好和方阻可调范围宽的特点。TCR为(-105~-135)×10-6/℃,方阻为25~1000Ω。采用溅射法工艺制膜。用于制作薄膜电阻元件。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条