1) acid hardening resists
酸硬化光刻胶
2) photoresist ashing
光刻胶灰化
1.
In addition to the general process, the photoresist ashing technique is developed for achieving good quality gratings.
本文引入反应离子刻蚀进行光刻胶灰化处理新技术 ,成功地制作了每毫米 1 2 0 0线、闪耀波长为 1 30ｎｍ的锯齿槽形光栅 。
3) cinnamate photoresist
肉桂酸酯光刻胶
4) Photoresist@P1ashing technique
光刻胶灰化工艺
5) halide photoresist
卤化物光刻胶
6) diazido-cyclized rubber photoresist
双叠氮-环化橡胶光刻胶
补充资料：聚乙烯醇-肉桂酸酯光刻胶
分子式：
CAS号：
性质：是指以聚乙烯醇和肉桂酰氯为原料，通过酯化反应制成聚乙烯醇肉桂酸酯。光照下，聚乙烯醇肉桂酸酯可以发生交联反应。利用它的这种性质，1959年美国开始将聚乙烯醇肉桂的酸酯用于制造印刷线路版上，作为很好的光刻胶来使用。聚乙烯醇肉桂酸酯作为光刻胶使用时，一般还要加入少量的增感剂来提高感度。
CAS号：
性质：是指以聚乙烯醇和肉桂酰氯为原料，通过酯化反应制成聚乙烯醇肉桂酸酯。光照下，聚乙烯醇肉桂酸酯可以发生交联反应。利用它的这种性质，1959年美国开始将聚乙烯醇肉桂的酸酯用于制造印刷线路版上，作为很好的光刻胶来使用。聚乙烯醇肉桂酸酯作为光刻胶使用时，一般还要加入少量的增感剂来提高感度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条