1) photomask
['fəutəumɑ:sk]
光学掩膜
2) Photomask
['fəutəumɑ:sk]
光刻掩膜
1.
A Simple Photomask with Photoresist Mask Layer for Ultraviolet-Photolithography and Its Application for Selectively Photochemical Surface Modification of Polymers;
光胶做挡光层的紫外光刻掩膜用于高聚物芯片表面选择性光化学改性
3) photo-mask lithography
掩膜光刻
1.
To develop a simple low-cost method for general microcups of electronic paper,the chosen methacrylic ester formulation consisted of some function units,such as solvent-resistance units,flexibility and adhesion promoting units,was accomplished through photo-mask lithography.
采用丙烯酸酯材料,以含羧酸的低聚物交联所得的网状结构为抗蚀单元,以聚酯、聚氨酯、异冰片酯单元等为柔性附着力促进单元,通过掩膜光刻法制得微杯结构。
4) high-resolution optical mask
高分辨率光学掩膜
5) optical mask
光学掩模
1.
Design for optical mask of micro sun sensor;
微型太阳敏感器光学掩模的镀膜设计
6) light transmitting photomask
光透射掩膜
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条