1) cathodic multi arc ion plating
阴极多弧离子
1.
TiN films grown on Ti as interlayers were prepared on AZ91C magnesium alloy substrate by cathodic multi arc ion plating.
采用阴极多弧离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了结合力强的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究。
2) cathodic arc ion plating
阴极电弧离子镀
1.
Corrosion behavior of ZrN gradient and Zr/ZrN multilayer coatings deposited by cathodic arc ion plating
阴极电弧离子镀ZrN梯度膜和Zr/ZrN多层膜的腐蚀特性
3) Cathodic arc plasma source
阴极弧离子源
4) cathodic arc plasma
阴极弧等离子体
1.
The magnetic filter was used to avoid macro-particles in cathodic arc plasma.
采用磁过滤弯管滤除阴极弧等离子体中的大颗粒,研究了偏压和导向磁场对磁过滤弯管传输效率的影响。
5) multi-cathode arc
多阴极弧
1.
In this paper,we use plasma immersion ion implantation and deposition (PIII&D) with multi-cathode arc source discharge multi-plasma arc mix equipment synthesize Ti-Al-Si-N multi-composite films on high-speed steel W18Cr4V.
本文采用装有多阴极弧放电的多元等离子弧混合装置的全方位等离子注入与沉积设备(PIII&D)在高速钢W18Cr4V基体表面制备了Ti-Al-Si-N多元复合膜层。
6) cathodic are metal plasma source
阴极弧金属等离子体源
1.
One main feature of the cathodic are metal plasma source is existing macroparticles which are transported with metal plasma,and the widely application possibility of the cathodic arc metal plasma source is often affected by the serious macroparticles problem.
液滴的存在并伴随着金属等离子体输运是阴极弧金属等离子体源的主要特性之一,液滴问题的严重性常常影响着阴极弧金属等离子体源广泛应用的可能性。
补充资料：等离子弧切割
用等离子弧作为热源、借助高速热离子气体熔化和吹除熔化金属而形成切口的热切割。等离子弧切割的工作原理与等离子弧焊相似，但电源有 150伏以上的空载电压,电弧电压也高达100伏以上。割炬的结构也比焊炬粗大，需要水冷。等离子弧切割一般使用高纯度氮作为等离子气体，但也可以使用氩或氩氮、氩氢等混合气体。一般不使用保护气体，有时也可使用二氧化碳作保护气体。等离子弧切割有3类:小电流等离子弧切割使用70～100安的电流，电弧属于非转移弧，用于5～25毫米薄板的手工切割或铸件刨槽、打孔等；大电流等离子弧切割使用100～200安或更大的电流，电弧多属于转移弧（见等离子弧焊）,用于大厚度（12～130毫米）材料的机械化切割或仿形切割；喷水等离子弧切割,使用大电流,割炬的外套带有环形喷水嘴，喷出的水罩可减轻切割时产生的烟尘和噪声，并能改善切口质量。等离子弧可切割不锈钢、高合金钢、铸铁、铝及其合金等，还可切割非金属材料，如矿石、水泥板和陶瓷等。等离子弧切割的切口细窄、光洁而平直，质量与精密气割质量相似。同样条件下等离子弧的切割速度大于气割，且切割材料范围也比气割更广。（见彩图）
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条