1) cathodic vacuum arc deposition
阴极电弧离子沉积
2) CVAD
阴极真空电弧离子沉积
1.
MgO thin films deposited on Si(100) were prepared by cathodic vacuum arc deposition(CVAD) at different oxygen flow rates.
采用阴极真空电弧离子沉积技术在硅基片上制备出了MgO薄膜。
3) cathodic micro-arc electrodeposition
阴极微弧电沉积
1.
An alumina coating with a thickness of 100μm on a titanium substrate was prepared by cathodic micro-arc electrodeposition.
采用阴极微弧电沉积在钛表面生成了厚度达100μm的氧化铝涂层,研究了不同电压下涂层的结构和组成,分析了涂层的生长规律和形成过程。
2.
Alumina coatings on titanium substrate were prepared by cathodic micro-arc electrodeposition.
用阴极微弧电沉积在钛表面生成Al2O3涂层,探讨溶液组成、放电电压及时间对涂层形貌、相组成及生长速率的影响。
4) cathodic arc deposition
阴极电弧沉积
1.
Electro-acoustic application of diamond-like carbon films by cathodic arc deposition technique——Development and production of DLC/Ti high-fidelity tweeters diaphragms;
阴极电弧沉积类金刚石膜在电声中的应用——高保真DLC/Ti高音扬声器振膜的研发和生产
5) deposition by cathodic plasma electrolysis
等离子体电解阴极沉积
6) cathodic arc ion plating
阴极电弧离子镀
1.
Corrosion behavior of ZrN gradient and Zr/ZrN multilayer coatings deposited by cathodic arc ion plating
阴极电弧离子镀ZrN梯度膜和Zr/ZrN多层膜的腐蚀特性
补充资料：阴极沉积
分子式：
CAS号：
性质：电解盐类水溶液或熔盐制备金属或电解精炼提纯金属时，金属离子皆在阴极被还原并沉积析出，故称阴极沉积。沉积金属的状态与电极材料、离子浓度、温度等条件有关。
CAS号：
性质：电解盐类水溶液或熔盐制备金属或电解精炼提纯金属时，金属离子皆在阴极被还原并沉积析出，故称阴极沉积。沉积金属的状态与电极材料、离子浓度、温度等条件有关。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条